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bob手机综合app - 版美股挖掘机阿斯麦:掌握全球

时间:2022-03-11 09:26   点击: 次 

  bob官网综合app - bob手机app下载光刻是芯片生产流程中最复杂、最关键的步骤,光刻的工艺更是直接决定芯片的性能水平,一台动辄上亿美元,还不一定买的到。不管是台积电、三星号称自己的芯片代工有多优秀,苹果、英伟达、高通等都恳求产量,但事实上,bob手机综合app - 官网版这两家代工巨头没了光刻机就“寸步难行”。而如今的光刻机市场近乎被一家所垄断,那就是荷兰的半导体设备制造巨头阿斯麦(ASML)。

  1.占全球超七成的光刻机市场,更是唯一能量产EUV光刻机的公司,后者单台价格10亿元起步,支撑起台积电、三星的3-5纳米芯片工艺。公司预计,到2025年,全球所运行的光刻机中EUV光刻机所占比例将超过60%,bob手机综合app - 版美股挖掘机因此将持续受益。

  2.今年将继续扩大产量,确保其客户台积电、三星、英特尔的扩产计划能如期进行,缓解全球半导体短缺的局面。公司今年营收有望提高20%左右;

  3.新一代光刻机已在路上,英特尔率先订购,可以显著提高良率、降低成本和缩短生产周期,甚至能应用于3纳米芯片以下的制程。每台售价约为3.4亿美元(人民币超20亿元);

  4.与客户深度绑定,像英特尔、三星、台积电和海力士都是其股东,达成共生合作关系,与公司的供应商、研究伙伴、芯片设备制造厂商紧密联系,实现全球最顶尖的芯片制造生态链。

  受宏观环境影响,半导体行业股票承压。ASML今年跌超17.68%,动态市盈率回落至39.63.但从长期来看,ASML的基本面强劲,未来有进一步上行空间。

  全球的芯片制造生态已较为成熟,主要分成芯片设备制造商(ASML、应用材料、拉姆研究)、芯片代工厂(台积电)、IDM(设计到制造都包揽的公司,英特尔、三星)、芯片设计自动化(ARM)、芯片公司(苹果、高通、英伟达等,仅设计芯片,交台积电、三星外包制造)、芯片组装和测试。

  而芯片设备制造商便是这个生态里最上游的部分,没有先进的设备,芯片制造厂就“巧妇难为无米之炊”,尤其是光刻机。因此,ASML在芯片生产中有近乎垄断的地位。

  但在当时,ASML在制造光刻机的公司中排名垫底,届时的竞争对手有尼康、GCA、Kasper等等。

  根据摩尔定律,当价格不变时,集成电路上所能容纳的元器件数目每隔大约18~24个月就会增加一倍,性能也将提升一倍。每一次制程的前进,也会带来一次芯片性能质的飞跃。

  然而,上世纪90年代,GCA和尼康遇到瓶颈。光刻机的光源波长卡在193nm、芯片制程缩小至65nm时,就无法再进一步,提升半导体制造工艺也陷入了僵局。

  尼康等公司主张以空气为介质的“干式”光刻技术的突破,而台积电光刻技术研发负责人的林本坚在2002年提出“浸润式光刻”,当光线通过浸在液体中的微缩影镜头时,就能将影像借由折射率进一步缩小。这一想法不被当时的主流公司所接受。

  但这也成为ASML逆袭的关键,公司迅速与台积电展开合作。2004年,两家公司共同研发出第一台浸润式微影光刻机,波长达132nm,全面碾压尼康的157nm,从此一往无前。

  在光刻机的世界中,只有赢者通吃的道理。各大客户纷纷将订单转向ASML。短短几年,ASML市场份额就达到了70%。

  但ASML并没有就此停步,公司联合多家美国研究机构、供应商等,近20年来潜心研发极紫外光刻(EUV)技术。极紫外光刻使用波长更短的激光(13.5nm),起步就可以制造7纳米级别的芯片,甚至为5纳米和3纳米做好了准备。相对于深紫外光刻,EUV需要重新研发刻蚀材料、光刻胶、刻蚀工艺等等,对精度的要求进一步提高,目前只有ASML一家公司能制造EUV光刻机。

  当前,台积电、三星、英特尔等芯片制造商就是购买了ASML的EUV光刻机。台积电通过全面采用EUV技术成功制成5纳米工艺的芯片(3纳米芯片量产也已在路上),供货给苹果、高通等厂商。

  一台EUV的价格在1.5亿欧元左右(超10亿元)。ASML预计,到2025年,全球所运行的光刻机中,EUV光刻机所占的比例将超过60%。

  事实上,ASML是全球最高端技术的“结晶”。一台光刻机的重量约为180吨,内部有超过10万个零件(一些更是超过30万个!),供应商超700家,90%零部件都是由他国进口而来。ASML光刻机的光学器件以及镜头全部来自德国的蔡司,蔡司的光学镜头是业内公认的顶尖水准;轴承则来自于瑞典、采用日本的光学技术、美国的光源设备,集合了多国的力量才能组装出一台。阿斯麦:掌握全球芯片制造命脉 光刻机霸

  不仅如此,ASML与客户深度绑定,像英特尔、三星、台积电和海力士都是其股东,达成共生合作关系,同时与公司的供应商、研究伙伴、芯片设备制造厂商紧密联系,实现全球最顶尖的芯片制造生态链。

  根据公司年报,2021年总营收186亿欧元(约1303.97亿人民币),同比增长33%;净利润为59亿欧元(约413亿人民币),同比增长66%;毛利率为53%。

  ASML去年共销售309台光刻机(EUV光刻机销量为42套,贡献63亿欧元营业额),并试图继续扩大产量,以确保其客户台积电、三星、英特尔的扩产计划能如期进行,从而缓解全球半导体短缺的局面。公司预计今年的净销售额将上升20%左右。

  EUV业务方面,公司在2021年第四季度收到了一份TWINSCANEXE:5000订单(该设备在2018年已经收到了四份订单),2022年初收到了下一代TWINSCAN EXE:5200的第一份订单,标志着0.55 NA EUV市场化进入下一阶段。

  根据ASML同时发布的公告称,bob手机综合app - 官网版TWINSCAN EXE:5200的第一份订单来自于英特尔,后者同样是首个下单TWINSCAN EXE:5000的客户,TWINSCAN EXE:5000和EXE:5200均提供了0.55数值孔径,比前代EUV光刻机0.33数值孔径透镜的精度提高了,可以为更小的晶体管功能提供更高分辨率的模式。目前,台积电等生产7nm-5nm制程的芯片采用的都是0.33 NA EUV光刻机。

  过去几年,ASML一直在研发高数值孔径(0.55 NA)EUV光刻机。这种EUV光刻机采用最新的光学设计,具有更高的分辨率(由13nm升级到8nm),可以使芯片面积缩小1.7倍,晶体管密度增加2.9倍。与目前的0.33 NA EUV光刻机相比,0.55 NA光刻机可以显著提高良率、降低成本和缩短生产周期,甚至能应用于3纳米芯片以下的制程。0.55 NA光刻机的价格也相当昂贵,每台售价约为3亿美元(约合人民币19亿元),比0.33 NA光刻机售价高出一倍。

  电子产品、VR/AR、超算、电动汽车、自动驾驶、5G、大数据、AI、物联网等,现代科技的发展离不开芯片,为满足各类需求以算法需求,芯片效能不断提高的同时,还须降低成本,因此各地芯片制造厂对EUV光刻机的依赖会只多不少。ASML在当前中高端光刻机市场已无可替代,并不断向更高的技术发起进攻,未来前景是无限的光明。